5.1.3 依照Z 方向切其剖面观察气流对薄膜影响

    按Z 方向分别在位置Z=7、Z=8.5、Z=10、Z=11.5、Z=13、Z=15 其剖面，如图32~43。当Z=7 时，如图32~33，因为还没切到薄膜位置(薄膜位置Z=8.05~14.05)，所以呈现出气流是往下流动，其平均速度约为0.1m/s；当Z=8.5 时，如图34~35，此位置在薄膜与机台中间空隙旁，因为受到空隙之往下气流的影响，所形成之气簾效应造成气流的旋转，此区域之气流会将较低成之气流往上卷起，而会对薄膜会有particle 附着现象，其平均速度约为0.3m/s。当Z=10 时，如图36~37，此位置之现象虽然没有像位置在Z=8.5 之气廉效应那么严重，但是因为兩个地板回风口中间并没有左右风量來源，故在兩地板回风口中间会有气流打转现象，其平均速度约为0.3m/s；当Z=11.5 时，如图38~39，此位置之现象如位置在Z=10之现象相同，其速度约为0.3m/s；当Z=13 时，如图40~41，此位置也在薄膜与机台中间空隙旁，也因为受到空隙之往下气流的影响，所形成之气簾效应造成气流的旋转，所以此位置之现象如位置在Z=8.5 之现象相同，其平均速度约为0.3m/s；当Z=15 时，如图42~43，也因为没有切到薄膜位置，所以呈现出气流是往下流动，其平均速度约为0.1m/s。

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